本特利135813-01

更新时间: 2025-03-11

触媒温度优化控制：各氨厂采用ＤＣＳ监控生产过程后，为开发高级控制策略
提供硬件和软件条件。某厂在上位机上采用Ｐａｓｃａｌ语言开发了优化控制方案，运用
上位机和控制站二级控制触媒层温度。习惯上的触媒层温度控制，总是通过稳定蒸发器气
体出口温度这一外部干扰因素，来追求合成塔触媒层温度在定值条件下的动态品质和控制
精度。但是形式上的一条线，却牺牲了蒸发器气体出口温度**条件下所取得的经济效益
。通过工艺机理分析，撇开了传统的调节方法，允许触媒层温度依据触媒的活性在不同的
使用期有一定的波动范围。同时根据实时的气氨压力、系统压力、系统负荷、不同牌号的
触媒活性周期，在维持蒸发器**出口温度的条件下，实施触媒层温度的优化控制。对原
控制方案和优化控制方案在相同工况下的１４４０组数据进行统计分析表明HCS021E-W0012-A-03-NNNN CSH01.1C-PB-ENS-NNN-NNN-S2-S-NN-FW R911
A06B-6096-H103 
AMK AW 25/38-3 
R901344535 4WE6J54/BG12-12NXMZ2/V R901267722 EX-1195-100
4WE6J53/BG12-12NXHZ2/V R901016257 GE45B-2-A X08 0180 R900174933
DBE110
UTR006-025-0-RM060-130 
SM100SM-2000 
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